Магнетронне нанесення нанокомпозитних покриттів nc-TiC/a-C та CNx

Abstract

Однією з поточних задач інженерії поверхні є розробка технологій осаджування нанокомпозитних покриттів з різними робочими характеристиками. Для осаджування TiC/C і CNx використовували систему з двох магнітних розпилювальних пристроїв з графітовою та титановою мішенями. Проведені дослідження умов отримання покриття TiC/C з регульованим вмістом вуглецю, який змінюється від 42 до 70 ат. %. Показано, що при вмісті вуглецю в межах 42-54 ат. % покриття складається з нанорозмірних кристалів TiC, впроваджених в аморфну матрицю вуглецю. Розмір зерна TiC зменшується від 5,3 -10,2 до 2,9-4,3 нм із збільшенням вмісту вуглецю в покритті від 42 до 54 ат. %.