Ефективність використання математичної моделі для опису герерації температурних полів

Abstract

В роботі розроблено математичну модель для опису генерації температурних полів під час іонно-плазмової обробки поверхні міді при утворенні наноструктур у приповерхневих шарах. Проведені дослідження температурних полів при іонно-плазмовій обробці міді іонами кисню показують, що можливо створювати температурні поля з високими температурними градієнтами в заданій площині х=0,5 λm, при щільності струму J = 2,7∙106 A/m з досить високими показниками температурних напружень (108 N/m), що і буде сприяти утворенню стабільних наноструктур. Створена теоретична модель являється регульованою та контрольованою. Вона буде затребуваною для удосконалення технологій отримання наноструктур плазмово-іонними методами. Також, завдяки розробленій математичній моделі, було отримано структури температурних полів при іонно-плазмовій обробці міді великою кількістю іонів кисню для різних глибин проникнення часток.