Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://ir.stu.cn.ua/123456789/30134
Назва: Вплив технологічних чинників на якість приладових структур
Інші назви: The influence of technological factors on quality of instrument structures
Автори: Небеснюк, О.
Ніконова, А.
Алексієвський, Д.
Ніконова, З.
Ключові слова: epitaxial compositions
semiconductor devices
dislocation-free silicon
defects
annealing
plate
епітаксійні композиції
напівпровідникові прилади
бездислокаційний кремній
дефекти
відпал
пластина
Дата публікації: 2024
Видавництво: Чернігів : НУ "Чернігівська політехніка"
Серія/номер: Технічні науки та технології;№ 1 (35)
Короткий огляд (реферат): Застосування методу інтерферометрії дало можливість суттєво доповнити та уточнити інформацію про морфологію, характер дефектів нарощених шарів епітаксійних композицій (ЕК), виявлених методами вибіркового травлення за допомогою металографічного мікроскопа. Порівняльним дослідженням ступеня дефектності пластин після кожного з етапів їх виготовлення встановлено, при яких операціях технологічного процесу утворюються конкретні види дефектів. Запропоновано методику отримання якісних напівпровідникових приладів та інтегральних схем на основі різних видів ЕК з високим питомим опором робочого шару.
Опис: Вплив технологічних чинників на якість приладових структур / О. Небеснюк, А. Ніконова, Д. Алексієвський, З. Ніконова // Технічні науки та технології. - 2024. - № 1 (35). - С. 75-80.
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): https://ir.stu.cn.ua/123456789/30134
Розташовується у зібраннях:Технічні науки та технології. – 2024. – №1 (35)

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
7. Небеснюк.pdfстаття237,29 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.