Багатошарові леговані нітридні покриття системи TiAlN

Abstract

Наведено результати досліджень гами багатошарових наноструктурних покриттів на основі системи TiAlN – структурного стану, морфології, складу, мікрогеометрії інтерфейсу. Покриття загальною товщиною 7–8 мкм з товщиною шарів (TiAlN/СrN) 20–30 нм, нанесене вакуумно-дуговим методом на основу з надтвердої кераміки на основі кубічного нітриду бору. Розглянуто вплив на показники стану інтерфейсу покриттів, легування їхніх матеріалів, комплексом елементів – Y, Zr, Nb, Si. На основі аналізу результатів вивчення інтерфейсу покриттів методом скетч-тестування встановлено агезійний і когезійний механізми руйнування покриттів залежно від рівня легування їхніх матеріалів, запропоновано перспективні напрями використання покриттів для застосування в різальному інструменті з PcBN.