Показати скорочений опис матеріалу
dc.contributor.author | Болотов, М. Г. | |
dc.date.accessioned | 2015-09-22T12:38:53Z | |
dc.date.accessioned | 2017-06-29T09:36:12Z | |
dc.date.available | 2015-09-22T12:38:53Z | |
dc.date.available | 2017-06-29T09:36:12Z | |
dc.date.issued | 2016 | |
dc.identifier.uri | http://ir.stu.cn.ua/123456789/13356 | |
dc.description | Болотов, М. Г. Оптимізація процесу осадження тонких металевих плівок у тліючому розряді з порожнистим катодом / М. Г. Болотов // Технічні науки та технології. – 2016. – № 3 (5). – C. 104-112. | en_US |
dc.description.abstract | Наведено результати застосування методів математичного планування експерименту з метою визначення найбільш впливових на процеси формування та росту металевого тонкоплівкового покриття параметрів режиму осадження у тліючому розряді з порожнистим катодом. У результаті роботи отримано регресійну математичну модель, яка дозволяє отримати результати з 4…6 % похибкою відносно експериментальних. | en_US |
dc.language.iso | uk | en_US |
dc.publisher | Чернігів: ЧНТУ | en_US |
dc.relation.ispartofseries | Технічні науки та технології; № 3 (5) | |
dc.subject | математичне планування експерименту | en_US |
dc.subject | тліючий розряд | en_US |
dc.subject | порожнистий катод | en_US |
dc.subject | тонкоплівкове покриття | en_US |
dc.subject | регресійна модель | en_US |
dc.subject | mathematical experiment planning | en_US |
dc.subject | glow discharge | en_US |
dc.subject | hollow cathode | en_US |
dc.subject | thin film coating | en_US |
dc.subject | the regression model | en_US |
dc.subject | математическое планирование эксперимента | en_US |
dc.subject | тлеющий разряд | en_US |
dc.subject | полый катод | en_US |
dc.subject | тонкопленочное покрытие | en_US |
dc.subject | регрессионная модель | en_US |
dc.title | Оптимізація процесу осадження тонких металевих плівок у тліючому розряді з порожнистим катодом | en_US |
dc.title.alternative | Optimization of the deposition process of thin metal films in glow discharge with hollow cathode | en_US |
dc.title.alternative | Оптимизация процесса осаждения тонких металлических пленок в тлеющем разряде с полым катодом | en_US |
dc.type | Article | en_US |
dc.description.abstractalt1 | The results of methods of mathematical planning of the experiment application to determine the most influential on the formation and growth of metallic thin film coating deposition mode setting in the glow discharge with the hollow cathode are presented in this work. The regression mathematical model allows getting results with an error 4...6 % relative to the experimental obtained in this study. | en_US |
dc.description.abstractalt2 | Приведены результаты применения методов математического планирования эксперимента с целью определения наиболее влиятельных на процессы формирования и роста металлического тонкопленочного покрытия параметров режима осаждения в тлеющем разряде с полым катодом. В результате работы получено регрессионную математическую модель, которая позволяет получить результаты с 4...6 % погрешностью относительно экспериментальных. | en_US |