Короткий опис(реферат):
Інтерес до дослідження плазмохімічних шарів нітриду кремнію, а також можливостей його застосування і сьогодні не втратив своєї актуальності. До пріоритетів отримання таких плівок відносять низьку, до 4000 С температуру осадження, при малих енергетичних значеннях тліючого розряду, можливість використання у середовищі плазми різноманітних вихідних реагентів, широким варіюванням складу і властивостей шарів.
Суть розробки, основні результати:
Рассамакін, В. Я. Застосування PECVD гідрогенізованих шарів SіNH у напівпровідникових приладах / В. Я. Рассамакін // Комплексне забезпечення якості технологічних процесів та систем (КЗЯТПС – 2022) : тези доповідей XІІ Міжнародної науково-практичної конференції (м. Чернігів, 26–27 травня 2022 р.) : у 2 т. Т. 2. – Чернігів : НУ «Чернігівська політехніка», 2022. – С. 86.