Оптимізація процесу осадження тонких металевих плівок у тліючому розряді з порожнистим катодом

Болотов, М. Г.

IRChNUT Home
→
ПЕРІОДИЧНІ ВИДАННЯ НУ «Чернігівська політехніка»
→
Технічні науки та технології: науковий журнал
→
2016
→
№3(5)
→
View Item

dc.contributor.author	Болотов, М. Г.
dc.date.accessioned	2015-09-22T12:38:53Z
dc.date.accessioned	2017-06-29T09:36:12Z
dc.date.available	2015-09-22T12:38:53Z
dc.date.available	2017-06-29T09:36:12Z
dc.date.issued	2016
dc.identifier.uri	http://ir.stu.cn.ua/123456789/13356
dc.description	Болотов, М. Г. Оптимізація процесу осадження тонких металевих плівок у тліючому розряді з порожнистим катодом / М. Г. Болотов // Технічні науки та технології. – 2016. – № 3 (5). – C. 104-112.	en_US
dc.description.abstract	Наведено результати застосування методів математичного планування експерименту з метою визначення найбільш впливових на процеси формування та росту металевого тонкоплівкового покриття параметрів режиму осадження у тліючому розряді з порожнистим катодом. У результаті роботи отримано регресійну математичну модель, яка дозволяє отримати результати з 4…6 % похибкою відносно експериментальних.	en_US
dc.language.iso	uk	en_US
dc.publisher	Чернігів: ЧНТУ	en_US
dc.relation.ispartofseries	Технічні науки та технології; № 3 (5)
dc.subject	математичне планування експерименту	en_US
dc.subject	тліючий розряд	en_US
dc.subject	порожнистий катод	en_US
dc.subject	тонкоплівкове покриття	en_US
dc.subject	регресійна модель	en_US
dc.subject	mathematical experiment planning	en_US
dc.subject	glow discharge	en_US
dc.subject	hollow cathode	en_US
dc.subject	thin film coating	en_US
dc.subject	the regression model	en_US
dc.subject	математическое планирование эксперимента	en_US
dc.subject	тлеющий разряд	en_US
dc.subject	полый катод	en_US
dc.subject	тонкопленочное покрытие	en_US
dc.subject	регрессионная модель	en_US
dc.title	Оптимізація процесу осадження тонких металевих плівок у тліючому розряді з порожнистим катодом	en_US
dc.title.alternative	Optimization of the deposition process of thin metal films in glow discharge with hollow cathode	en_US
dc.title.alternative	Оптимизация процесса осаждения тонких металлических пленок в тлеющем разряде с полым катодом	en_US
dc.type	Article	en_US
dc.description.abstractalt1	The results of methods of mathematical planning of the experiment application to determine the most influential on the formation and growth of metallic thin film coating deposition mode setting in the glow discharge with the hollow cathode are presented in this work. The regression mathematical model allows getting results with an error 4...6 % relative to the experimental obtained in this study.	en_US
dc.description.abstractalt2	Приведены результаты применения методов математического планирования эксперимента с целью определения наиболее влиятельных на процессы формирования и роста металлического тонкопленочного покрытия параметров режима осаждения в тлеющем разряде с полым катодом. В результате работы получено регрессионную математическую модель, которая позволяет получить результаты с 4...6 % погрешностью относительно экспериментальных.	en_US